Jan Unarski; Wojciech Wach; Piotr Ciępka
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Vortrag
2015
24. EVU Conference, Edinburgh
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Das auf dem 22. EVU-Kongress in Florenz präsentierte Leuchtdichte-Messkamera-System LMK wurde in den vergangenen beiden Jahren in diversen Anwendungsfällen eingesetzt und viele Sachverständiger konnten sich bereits eine Meinung darüber bilden. Die Fähigkeit des LMK-Systems, Leuchtdichten von Objekten und den jeweiligen Hintergründen zu messen, wurde nun auch in dieser Untersuchung genutzt, um einen Näherungswert für die Sichtweite von Hindernissen zu bestimmen. Trotz teilweise mühevoller Berechnungen lieferte das LMK-System letztendlich gute Resultate. In der Praxis hat es sich vor allem in komplexen Beleuchtungssituationen (untypische Hindernisse, Blendung durch andere Objekte), für die es keine einfachen Sichtbarkeitsregeln gibt und in denen auch der Intuition eines Ingenieurs nicht vertraut werden kann, als besonders brauchbar erwiesen. In der hier vorliegenden Abhandlung werden einige Fallbeispiele beschrieben, die mit Hilfe des LKM-Systems untersucht wurden und teilweise zu interessanten Resultaten führten.
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